Qスイッチ固体レーザー  HIPPO

HIPPO™シリーズは精密な材料加工向けに開発された、ハイ・パフォーマンスレーザーです。高出力に加え、短パルスであることで極めて高いピークパワーを得ることができます。パルス幅はIRで15nsec以下でありDUVでは11nsecとなり熱影響の少ない加工が実現できます。またIRから可視、UVに至るまでのビーム品質の良さは特筆すべきものがあります。外部設置の波長変換モジュールは、交換が容易で1064nmから532nm、355nmそして266nmへと要求される波長を簡単に得ることができます。
あらゆる微細加工のアプリケーションに最適です。

励起光源には、長寿命LD ProLite^®を使用しています。LDはファイバーカップルされ電源内に格納されていますので、レーザーヘッドを再調整することなく交換が可能です。

・HIPPO 532-15
　薄膜系太陽電池のa-SiやCdTeなどのP2、P3層への高速多分岐スクライビングに
・HIPPO 1064-27
　薄膜系太陽電池の透明電極層(P1)のスクライビング、各素材のマーキング、シリコンウエハーダイシングなどに

・高繰返し、短パルス幅で熱影響が少ない加工が可能
・波長変換モジュールはユーザーによる波長切り替え可能、基本波(27W, 17W)から532nm(15W, 11W)、355nm(5W)、266nm(2W)
・パワーモニターとエレクトロ-メカニカル・シャッター内蔵
・ビーム位置、角度が保証されているので、設置が容易
・頑強でシールされたキャビティーは過酷な環境下でも安定に動作
・ProLite®使用により長寿命

・マイクロ・ビア・ホール・ドリリング
・シリコン・マイクロマシニング
・太陽電池スクライビング、カッティング
・半導体ウエハーダイシング、スクライビング
・シリコン、セラミック、ポリマーなどの微細加工および穴あけ

アプリケーション	HIPPO 1064-27	HIPPO 532-15	HIPPO 355-5	HIPPO PRIME 266-2
薄膜太陽電池のP1スクライビング	○
薄膜太陽電池のP2、P3スクライビング		○
セラミックス・クライビング	○	○
クリスタルシリコン太陽電池セル エッジアイソレーション		○	○
ICパッケージ　カッティング	○
フレキシブル基板プロセッシング	○		○
ガラス切断		○	○
ITO パターニング			○
各種金属・プラスチックへのマーキング	○	○	○
PCB ストラクチャリング・ 切り離し		○
サファイア (LED) スクライビング			○	○
シリコンウエハー　ダイシング	○		○
シリコンウエハー　マーキング		○
マイクロ・ビア・ホール・ドリリング			○

・HIPPO 1064-27：　Qスイッチ　Nd:YVO₄　>27W＠1064nm, <30nsec@ 100kHz
・HIPPO 1064-17：　Qスイッチ　Nd:YVO₄　>17W＠1064nm, <15nsec@ 50kHz
・HIPPO 532-15：　Qスイッチ　Nd:YVO₄　>15W＠ 532nm, <25nsec@ 100kHz
・HIPPO 532-11：　Qスイッチ　Nd:YVO₄　>11W＠ 532nm, <13nsec@ 50kHz
・HIPPO 355-5：　Qスイッチ　Nd:YVO₄　>5W＠ 355nm, <12nsec@50kHz
・HIPPO PRIME 266-2：　Qスイッチ　Nd:YVO₄　>2W＠ 266nm, <12nsec@50kHz　【NEW】

・HIPPO Laser Familyデータシート･図面(2012年4月更新)
・レーザー・パワーメーターセレクションガイド
・レーザーを用いたc-Siソーラーセル製造ブローシュア

アプリケーション インサイト
・Application Insight 002 - a-Siセル・スクライビング（太陽電池製造）
・Application Insight 003 - CIGS系薄膜セル・スクライビング（太陽電池製造）